Tantaalilla päällystetty kohde

Shaanxi Zhongheng Weichuang Metal Materials Co ., Ltd . sijaitsee Baoji Cityn korkean teknologian kehitysvyöhykkeellä, Shaanxin maakunta .}. Hafnium, Tantalum-volframiseoksen, Niobium hafnium-seos C103, samoin kuin syvät jalostetut tuotteet, kuten alukset, upotukset, ruiskutuskohteet, päällystyskohteet, koneistettuja osia, korkean lämpötilan uunien näyttöä, lämmityselementtejä, uunin lämmittäviä uunia (hehkuvia uuneja), ja corrosion-ja-ja -laitteita {

 

 

Tantalumpäällystettyjen kohteiden valmistusprosessi sisältää seuraavat päävaiheet

01.

Valmistusprosessi

Raaka -aineen valmistus: Korkea puhtaus tantaalijauhe (puhtaus, joka on suurempi tai yhtä suuri kuin 99 . 95%) sulaa elektronisäteen sulamisella (EBM) tai muodostettu jauhemetallurgialla . EBM -menetelmä voi poistaa matalan kiehumispisteen epäpuhtaudet, vähentää happea sisältöä 50 ppm: n alapuolelle ja refinoivan koon 20-50}} μ M.


Muovikäsittely: Sisältää taonta, rullaus ja lämpökäsittely . monisuuntainen taonta suoritetaan 1100-1250 astetta, ja lämmintä rullaustekniikkaa (600-800 astetta) käytetään . lämmönkäsittelyn rullaamiseen {5} {5} {5} {5} {5} {5

02.

Valmistusprosessi

Tarkkuus koneistus: Tyhjä on koneistettu kohdekokoon käyttämällä CNC -sorvi-/jyrsintäkonetta, pinnan karheus RA<0.4 μ m and a flatness error ≤ 0.02mm/100mm.


Sitoutumistekniikka: Diffuusiohitsausta tai juottamista käytetään tantaalikohteen sitomiseen kuparin taustalevyn kanssa, joka varmistaa lämmön hajoamisen tehokkuuden ruiskutusprosessin aikana

Tantaalilla päällystetyillä kohteilla on seuraavat ominaisuudet:

Korkea sulamispiste ja erinomainen korroosionkestävyys: Tantalumilla päällystettyjen kohteiden sulamispiste on jopa 3017 astetta C ja kiehumispiste 5458 astetta C, mikä osoittaa erinomaista korroosionkestävyyttä eikä reagoi Aqua Regian kanssa huoneenlämpötilassa ..
Korkean lämpötilan stabiilisuus: Pystyy ylläpitämään yli 400 mpa: n lujuutta 500 asteessa C, joka sopii suuritehoiseen ruiskuttamiseen .
Matala kaasun adsorptio Pintaenergia: pintaenergia on niin pieni kuin 0 . 8 J/m ², tukahduttaen tehokkaasti AR -kaasun adsorptiota ja parantamalla kalvon laskeutumisnopeutta.
Excellent film properties: When the thickness of the prepared TaN barrier layer is ≤ 5nm, it can still prevent Cu diffusion, and the critical current density is>1 × 10 ⁶ A/cm ² .

Tantalumpinnoitettujen kohteiden pääasiallisia sovellusalueita ovat:

Puolijohdevalmistus: Tantalumpinnoitettuja kohteita käytetään yleisesti kuparin yhdistämiskerroksissa integroidussa piirinvalmistuksessa, etenkin 10 nm -solmun alapuolella . TA/TAN -kaksikerroksen rakenne voi pidentää sähkömuutoksen vika -ajan 10: iin .}}}}
Optinen pinnoite: Tantaalilla päällystettyjä kohteita voidaan käyttää ohuiden kalvojen valmistamiseen, joilla on erityiset optiset ominaisuudet, joita käytetään laajasti optisissa laitteissa, näytöissä ja anturissa .
Lääketieteelliset laitteet: Niiden erinomaisen biologisen yhteensopivuuden vuoksi tantaalipäällystettyjä kohteita käytetään ortopedisten implanttien, kuten luolevyjen ja nivelproteesien, valmistukseen vähentämällä ihmisen hylkäämisreaktioita .
Huippuluokan valmistus: Huippuluokan valmistuksessa, kuten ruiskutuspäällyste ja optinen päällyste, taantaalilla päällystettyjen kohteiden kysyntä on lisääntynyt, ja globaalien markkinoiden koon odotetaan saavuttavan 3,27 miljardia yuania 2026.

Jatkossa, pinnoitusprosessien jatkuvalla optimoinnilla, tantaali -kohdemateriaalit laajentavat edelleen niiden käyttörajoja uudessa energia- ja tarkkuusvalmistuksessa, mikä tarjoaa luotettavamman materiaalien tuen teknologiselle kehittämiselle .}} .

Suositut Tagit: Tantaalipäällysteinen kohde, Kiinan tantaalipäällystetyt kohdevalmistajat, toimittajat, tehdas